石墨烯是一種以sp2雜化連接的碳原子緊密堆積成單層二維蜂窩狀晶格結(jié)構(gòu)的新材料。石墨烯具有優(yōu)異的光學、電學、力學特性,在材料學、微納加工、能源、生物醫(yī)學和藥物傳遞等方面具有重要的應用前景,被認為是一種未來革命性的材料。化學氣相沉積法(CVD)是可控制備大面積石墨烯的一種最常用的方法。它的主要原理是利用平面金屬作為基底和催化劑,在高溫環(huán)境中通入一定量的碳源前驅(qū)體和氫氣,相互作用后在金屬表面沉積而得到石墨烯。銘玨金屬生產(chǎn)的石墨烯專用銅箔具有純度高、穩(wěn)定性好、晶圓均勻、表面平整等特點,是CVD制程中理想的基底材料。
產(chǎn)品優(yōu)勢
純度高、穩(wěn)定性好、晶圓均勻、表面平整等特點。
相關(guān)型號
高精壓延銅箔
HTE高延展箔
*注:上述產(chǎn)品均可在本公司其他類目中找到,客戶可以根據(jù)實際應用需求選?。?/span>
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